用一台机器抛光和精加工尺寸达1.2米的自由曲面光学器件，达到高精度！

最新的MRF技术

扩展的尺寸能力

抛光孔径尺寸达1200 mm

QED.NET软件

EFMS（电子流体监测系统）流体控制系统。

技术能力

抛光高达1200 mm x 1200 mm的平面球、非球面、柱面和自由曲面光学器件

多部件批量抛光软件

4种不同的轴配置可用

可互换抛光头

50 mm MRF砂轮可抛光小表面特征并减少边缘效应。

370 mm MRF车轮具有高材料去除率，可快速覆盖大表面。

抛光垫可用于预抛光或抛光：

可变轨道和旋转RPM

可变压力

50mm和100mm抛光垫

Q22-1200

大规格

抛光孔径尺寸达1200 mm

技术规范

工件

最大工件尺寸*    1200毫米

最大工件重量*    400 kg（包括透镜架）

最大半角         30度

工件连接装置**   机械（真空可选）

各轴***           X、Y、Z、A、B、C、Q、Zp

移动范围***

（X）        1606毫米

（Y）        1016毫米

（Z，Z素）  740毫米

（B）        B+/-32度

（C）        C+/-35度

（Q，A）    连续或360度

定位精度***

（X，Y，Z）    +/-0.0076毫米

（B，Q）       +/-20弧秒

（D）          +/-10弧秒

Q22-1200配置       3轴       4轴        5轴         6轴

坐标轴              X,Y,Z       X,Y,Z,C      X,Y,Z,B,C      X,Y,Z,B,C,Q

平面光学的MRF抛光950 x 1200  950 x 1200  12000 x 1200  1200 x 1200

平板光学垫抛光     950 x 1200   950 x 1200  950 x 1200   950 x 1200

“温和”球体、非球面和自由光学的MRF抛光  950 x 1200

柱面、球面、非球面和自由曲面光学的MRF抛光  1200x1200, 1200x1200   1200x1200

平面、球面和非球面光学的衬垫抛光                      1200 x 1200

咨询电话：135 2207 9385

机器规格

机器占地面积         4.08 m宽x 3.72 m深

所需最小占地面积     5.56 m宽x 5.76 m深

机器安装高度         3.67 m高

机器总重量           13636千克

最小门开度（宽x高） 3.69米x 2.97米

与电有关的           210 VAC，50/60 Hz，63A，3ph+N+PE（5线）

水****               包括独立冷却器

压缩空气            87磅/平方英寸（6巴），3cfm（85ℓ/min），干燥并过滤至10μm

电气的部分：

与电有关的         210 VAC，50/60 Hz，63A，3ph+N+PE（5线）

水****             包括独立冷却器

压缩空气           87磅/平方英寸（6巴），3cfm（85ℓ/min），干燥并过滤至10μm